CS1N60A4H
华润华晶
CS1N60 A4H是采用自对准平面技术制造的硅N沟道增强型VDMOS场效应晶体管 · 该技术可降低导通损耗
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CS10N65FA9R
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CS10N65F A9R是一款采用自对准平面技术制造的硅N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(
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CS120N08A8
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CS120N08 A8是采用先进沟槽技术制成的硅N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDMO
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CS4N80A4HD-G
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CS4N80 A4HD - G是采用自对准平面技术制造的硅N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管
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CS12N06AE-G
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CS12N06 AE - G是采用硅材料的N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDMOSFE
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3DD13009AN
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3DD13009AN是硅NPN型功率开关晶体管 · 该产品采用平面工艺
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3DD13005GRD
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3DD13005 GRD 是硅NPN型功率开关晶体管 · 该产品采用平面工艺
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CS4N70FA9R
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CS4N70F A9R是采用自对准平面技术制造的硅N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDM
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CS100N03B4
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CS100N03 B4是采用自对准平面技术制造的硅N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDM
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CS5N20A4
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CS5N20 A4是一款采用硅材料的N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDMOSFET)
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CS7N65FA9R
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CS7N65F A9R是采用自对准平面技术制造的硅N沟道增强型VDMOSFET · 该技术可降低导通损耗、改
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3DD13009 A8是硅NPN型功率开关晶体管 · 该产品采用平面工艺
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CS4N80A3HD-G
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CS4N80 A3HD - G是采用自对准平面技术制造的硅N沟道增强型VDMOS场效应晶体管 · 该技术可降
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CS740A8H
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CS740 A8H是硅N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDMOSFET) · 采用自对准
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3DD13003E1D
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3DD13003 E1D 是硅NPN型功率开关晶体管 · 该产品采用平面工艺
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3DD13003E6D
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3DD13003 E6D 是硅NPN型功率开关晶体管 · 该产品采用平面工艺
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运算放大器/比较器 > 特殊功能放大器
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运算放大器/比较器 > 运算放大器
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三极管/MOS管/晶体管 > 场效应管(MOSFET)
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三极管/MOS管/晶体管 > 场效应管(MOSFET)
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